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SIGMAKOKI西格瑪光機高調波分離器

產品型號：YHSQ-50C08-266/355

產品品牌：SIGMAKOKI西格瑪光機

產品介紹：

依據波長，分離或合成YAG激光（1064nm）與諧波轉換后激光（266nm, 355nm, 532nm）時使用。備有不同反射率波長特性的5種類型。

詳細介紹

SIGMAKOKI西格瑪光機高調波分離器 / YHSQ-50C08-266/355

依據波長，分離或合成YAG激光（1064nm）與諧波轉換后激光（266nm, 355nm, 532nm）時使用。
備有不同反射率波長特性的5種類型。

詳情
由于使用多層電介質膜，膜系沒有吸收，也可用于高能量密度的激光。
由于是平板型，也可用于大口徑的激光。
99.2%以上的高反射率（雙波長產品98%以上），分離反射波段和透過波段。

注意
由于基板的折射率和厚度的作用，透過光的光路相對于入射光平行移動數mm。
用于45°之外的入射角時，透過率，反射率波長特性會變化。
請把基板側面的箭頭符號指定的那面作為反射面使用。在反面一側反射時，可能會產生光量損失或鬼影。
透過光中幾乎不混有反射波長的光線，但反射光會混有透過波長的光線。（5%?15%）
透過率的波長特性隨激光的偏光方向變化。技術指標表示的是P偏光和S偏光的平均值。請在確認激光實際的偏光方向后使用這些元件。技術指標的透過率是用P偏光和S偏光的平均值來表示的。

※激光脈沖寬10ns，重復頻率20Hz

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依據波長，分離或合成YAG激光（1064nm）與諧波轉換后激光（266nm, 355nm, 532nm）時使用。 備有不同反射率波長特性的5種類型。

依據波長，分離或合成YAG激光（1064nm）與諧波轉換后激光（266nm, 355nm, 532nm）時使用。備有不同反射率波長特性的5種類型。