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Otsuka大塚橢偏儀
產品型號: FE-5000
產品品牌:Otsuka大塚
產品介紹:

產品信息 特點 可在紫外和可見(250至800nm)波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù) 可分析納米級多層薄膜的厚度 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜 通過可變反射角測量,可詳細分析

詳細介紹
橢偏儀 FE-5000

產品信息 特點 可在紫外和可見(250至800nm)波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù) 可分析納米級多層薄膜的厚度 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜 通過可變反射角測量,可詳細分析...



產品信息

特點

● 可在紫外和可見(250至800nm)波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù)

● 可分析納米級多層薄膜的厚度

● 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜

● 通過可變反射角測量,可詳細分析薄膜

● 通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊功能,增強操作便利性

● 通過層膜貼合分析的光學常數(shù)測量可控制膜厚度/膜質量


測量項目

測量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)

光學常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析

薄膜厚度分析


用途

半導體晶圓
柵氧化膜,氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
光學常數(shù)(波長色散)

復合半導體
AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅

FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等

各種新材料
DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜

光學薄膜
TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

光刻領域
g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長的n、k評估


原理

包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對于反射光的橢圓偏振光進行測量。s波和p波的位相和振幅獨立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。

1.jpg
產品規(guī)格


*1可以驅動偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸角度。
*3對應微小點(可選)
*4它是使用VLSI標準SiO2膜(100nm)時的值。
*5可以在此波長范圍內進行選擇。
*6光源因測量波長而異。
*7選擇自動平臺時的值。

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